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PTHC系列密閉動態控溫系統采用全密閉設計，不設浴槽，專用于對外部負載進行恒溫控制，采用密閉設計，高溫時不會產生油霧和刺鼻氣味揮發到環境中、低溫不吸收環境空氣中雜質和水份，只有導熱介質參與循環，膨脹罐的溫度始終保持在較低溫度，避免了空氣進入循環系統后帶來循環介質變質及環境不友好等諸多問題。
普泰克溫控系統主要應用于：高壓反應釜、中試生產不銹鋼反應釜、雙層玻璃反應釜、夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態恒溫控制以及制藥行業中的低溫蒸餾、精餾、萃取等設備中，該系列可提供 -80℃~+250℃的溫度控制范圍，特殊可升級高溫至300℃，特別適用于快速放熱和吸熱的化學反應試驗。
PTHC系列密閉動態控溫系統特點如下：
1、采用磁耦合高溫循環泵，杜絕系統泄漏風險、密封好，流速大，確保設備能更快為外部系統換熱
2、只有管路里面的介質參與循環控溫、降低了導熱介質的參與量，提升了系統高低溫控溫的響應速度。
3、配備人性化7英寸真彩LCD觸摸屏，良好的人機交互界面，直觀顯示本機參數及外部控溫參數。智能觸控，操作便捷
4、設計多組通訊數據接口，可輕松接入各類通訊網絡。
5、合理的布局：經常操作均在設備正前方，管路連接均在設備后方，數據接口設置在設備側邊。
6、標配為風冷型，無需外接水源，安裝操作簡單；水冷型，散熱效率穩定，不受環境溫度影響。
7、考慮到化工客戶需要，可按照客戶設備放置區域定制隔離防爆和正壓防爆機型。
8、單臺設備可多路輸出，帶多路反應釜、反應器負載，每路可實現獨立控溫。節省空間。
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